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      當前位置:首頁產品中心其他設備AMC監測獵戶座 3100S空氣分子污染物監測系統

      空氣分子污染物監測系統
      產品簡介

      空氣分子污染物監測系統快速監測、報警、極低濃度測量、寬測量區域、多氣體的高靈敏響應等是半導體工業要求之一。深紫外光刻工藝特別關注氨、胺類、N-甲基毗咯烷酮NMP、酸類等濃度測量,當這些氣體與化學放大光刻膠反生反應 時,將深深的影響半導體器件質量。

      產品型號:獵戶座 3100S
      更新時間:2025-07-09
      廠商性質:經銷商
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      品牌杜克泰克產地國產

      獵戶座3100系統:完善的空氣分子污染物監測系統

      實時監測空氣分子污染(AMC )對于半導體生產過程極為重要。

      快速監測、報警、極低濃度測量、寬測量區域、多氣體的高靈敏響應等是半導體工業要求之一。深紫外光刻工藝特別關注氨、胺類、N-甲基毗咯烷酮NMP、酸類等濃度測量,當這些氣體與化學放大光刻膠反生反應 時,將深深的影響半導體器件質量。


      傳統古老的方法多采用間接測量分析方法。包括撞擊濾塵器、離子色譜、化學熒光法,這些方法分析速度太慢,操作過程太復雜,昂貴并且測量結果不精確。


      CEAS (腔增強吸收光譜)---原理

      基于CEAS(腔增強吸收光譜)技術的儀器原理圖,使用近紅外波段光進行高靈敏度吸收測量,測量腔室由一組高反射率多次反射鏡片組成的柱狀體構成,激光束經過固態校準器(FSR=2.00GHz)時會測量得到相對激光波長。為了保證清晰度,忽略了原本照射到左側測量單元腔鏡外的光束。










       

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